高温高压（HTHP）法

*早是以石墨为原料的，引入适宜的金属催化剂Fe、Co、Ni、Mn、Cr等，在2000K以上温度，几万个大气压下可以合成金刚石。目前，高温高压法只能生长小颗粒的金刚石；在合成大颗粒金刚石单晶方面主要使用晶种法，在较高压力和较高温度下，几天时间内使晶种长成粒度为几个毫米，重达几个克拉的宝石级人造金刚石，较长时间的高温高压使得生产成本昂贵，设备要求苛刻。而且HTHP金刚石由于使用了金属催化剂，使得金刚石中残留有微量的金属粒子，因此要想完全取代天然金刚石还有相当的距离。
化学气相沉积(CVD) 
化学气相沉积（CVD）法是在高温条件下使原料分解，生成碳原子或甲基原子团等活性粒子，并在一定工艺条件下，在基材材料上沉积生长金刚石膜的方法。常见的CVD方法包括：热化学沉积法，等离子体化学气相沉积法。等离子体化学气相沉积法又可以分为直流等离子体化学气相沉积法、射频等离子体化学气相沉积 法和微波等离子体化学气相沉积法及微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法等。